實(shí)踐證明深紫外光刻工藝深受多種類(lèi)微量污染物的影響，對很多微量污染物極為敏感，比如氨氣或者酸性氣體都會(huì )給半導體生產(chǎn)帶來(lái)危害，盡管隨著(zhù)深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展，已經(jīng)減少了長(cháng)時(shí)間持續實(shí)時(shí)監測，而實(shí)際上AMC空氣分析儀對空氣分子污染（AMC）的實(shí)時(shí)測量對產(chǎn)品質(zhì)量的好壞至關(guān)重要。
 

　　

　　AMC空氣分析儀也集成了多點(diǎn)監測系統，可依序將氣體抽送到分析儀或傳感器，并讀出測量結果。獵戶(hù)座3100S內嵌的報警、報告、分析軟件是由多年半導體行業(yè)經(jīng)驗的工程師集體開(kāi)發(fā)。模擬模塊可以輸出來(lái)自4~6臺分析儀或傳感器的數據。每臺分析儀配有內置計算機，可進(jìn)行數據存儲和數據輸出，還支持遠程網(wǎng)絡(luò )控制，通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)可以連接經(jīng)銷(xiāo)商服務(wù)商進(jìn)行操作或者診斷。使用者可以通過(guò)網(wǎng)絡(luò )瀏覽器比如IE、Chrome等世界任意可以聯(lián)網(wǎng)的地方進(jìn)行操作，遠程操作可實(shí)現多級管理權限控制和操作。

　　

　　儀器基于CEAS（腔增強吸收光譜）技術(shù)，極簡(jiǎn)使用、便捷操作，所有部件（包括內置真空泵、鍵盤(pán)、鼠標、顯示器等）幾分鐘內可開(kāi)始記錄數據，其他大氣中的水汽、CO2、O2、甲烷等不會(huì )對HCL、HF、NH3等測量構成交叉干擾。內置計算機可logo2以存儲大量數據到內置硬盤(pán)上，可同過(guò)數字接口或者模擬接口傳輸數據，可通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)遠程存儲或記錄數據，高質(zhì)量的數據庫，適合于苛刻的半導體痕量級氣體應用。

　　

　　AMC空氣分析儀基于CEAS（腔增強吸收光譜）技術(shù)的儀器原理圖，使用近紅外波段光進(jìn)行高靈敏度吸收測量，測量腔室由一組高反射率多次反射鏡片組成的柱狀體構成，激光束經(jīng)過(guò)固態(tài)校準器時(shí)會(huì )測量得到相對激光波長(cháng)。為了保證清晰度，忽略了原本照射到左側測量單元腔鏡外的光束。