對多種氣體的快速監測、報警、極低濃度的測量、寬廣的測量區域、高靈敏的響應是半導體工業(yè)的要求之一。深紫外光刻工藝特別關(guān)注氨、胺、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸等的濃度測量。當這些氣體與化學(xué)放大的光刻膠發(fā)生反應時(shí)，半導體器件的質(zhì)量將受到深刻影響。傳統和古老的方法大多采用間接測量和分析方法。這些方法包括沖擊過(guò)濾法、離子色譜法和化學(xué)熒光法，這些方法分析速度太慢，操作太復雜，價(jià)格昂貴，測量結果不準確。

　　

　　AMC空氣分析證明，深紫外光刻工藝深受多種微污染物的影響，對許多微污染物特別敏感，如氨氣或酸性氣體，會(huì )對半導體生產(chǎn)帶來(lái)危害。雖然隨著(zhù)深紫外耐腐蝕材料技術(shù)的發(fā)展，長(cháng)期連續的實(shí)時(shí)監測已經(jīng)減少，事實(shí)上，空氣分子污染物（AMC）的實(shí)時(shí)測量對產(chǎn)品的質(zhì)量非常重要。
 

　　

　　AMC空氣分析監測還集成了一個(gè)多點(diǎn)監測系統，可以將氣體依次抽到分析儀或傳感器上，并讀出測量結果。嵌入式報警、報告和分析軟件由在半導體行業(yè)有多年經(jīng)驗的工程師集體開(kāi)發(fā)。模擬模塊可以輸出4-6臺分析儀或傳感器的數據。每臺分析儀都配備了一臺內置計算機，可以存儲和輸出數據。它還支持遠程網(wǎng)絡(luò )控制，遠程操作可以實(shí)現多層次的管理權限控制和操作。

　　

　　AMC空氣分析儀基于CEAS（腔體增強吸收光譜）技術(shù)，儀器使用簡(jiǎn)單，操作方便。所有部件（包括內置真空泵、鍵盤(pán)、鼠標、顯示器等）在幾分鐘內就可以開(kāi)始記錄數據。其他大氣中的水蒸氣、CO2、O2、甲烷等不會(huì )對HCL、HF、NH3等造成交叉干擾。內置計算機可將大量數據存儲到內置硬盤(pán)，通過(guò)數字接口或模擬接口傳輸數據，通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)遠程存儲或記錄數據，高質(zhì)量的數據庫適用于苛刻的半導體微量氣體應用。