AMC在線(xiàn)監測空氣分子污染的實(shí)時(shí)監測對于半導體生產(chǎn)過(guò)程非常重要?？焖俦O視，警報，低濃度測量，寬測量范圍以及對多種氣體的高度敏感響應是半導體行業(yè)的要求。深紫外光刻工藝特別注意氨，胺，N-甲基吡咯烷酮NMP，酸等的濃度測量。當這些氣體與化學(xué)放大的光致抗蝕劑反應時(shí)，它們會(huì )嚴重影響半導體器件的質(zhì)量。傳統的古代方法大多使用間接測量和分析方法，包括沖擊濾池，離子色譜法，化學(xué)熒光法，這些方法分析速度太慢，操作過(guò)程太復雜，價(jià)格昂貴且測量結果不準確。
 

　　AMC在線(xiàn)監測技術(shù)解決了AMC（空氣分子污染物）監測的問(wèn)題，該監測可以快速測量NH3，HCL，HF的痕量水平，使用脈沖熒光測量SO2，并使用增強的GC-FID測量VOC。3100S系列空氣分子污染物監測系統可測量NH3，HCL，HF的痕量水平，并整合了uVOC-CAM的特性。它是用于半導體行業(yè)中潔凈室AMC（空氣分子污染）測量的強大工具。

　　AMC在線(xiàn)監測還集成了一個(gè)多點(diǎn)監測系統，該系統可以按順序將氣體泵送到分析儀或傳感器，并讀取測量結果。3100S內嵌的警報，報告和分析軟件是由在半導體行業(yè)具有多年經(jīng)驗的工程師共同開(kāi)發(fā)的。使用以太網(wǎng)，RS485/RS232或4-20mA模擬量模塊從4?6個(gè)分析儀或傳感器輸出數據。每臺分析儀均配有用于數據存儲和數據輸出的內置計算機，還支持遠程網(wǎng)絡(luò )控制，操作或診斷。